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参考答案:
举一反三
【简答题】A.对乙酰氨基酚 B.肾上腺素 C.阿司匹林 D.盐酸普鲁卡因注射液 E. 异烟肼 特殊杂质为 酮体 的药物是 _____。 特殊杂质为 对氨基酚 的药物是 _____。 特殊杂质为 对氨基苯甲酸 的药物是 _____。 特殊杂质为游离水杨酸的药物是 _____。 特殊杂质为游离肼的药物是 _____。
【简答题】制备半导体材料时发生如下反应,其相应的热力学数据如下: SiO2(s)+2C(s)===Si(s)+2CO(g) △fmθ(298.15 K)/(kJ.mol-1) 一903.5 0 0 一110.5 △fGmθ(298.15 K)/(kJ.mol-1) 一850.7 0 0 —1 37.2 试通过计算回答:(1)标准状态下,298.15 K时,反应能否自发进行? (2)标准状态下,反应自发进行的...
【简答题】什么是一般杂质?什么是特殊杂质?分别举例说明?
【简答题】制备半导体材料时发生如下反应: SiO 2 (s)+ 2C(s,石墨) ═ Si(s)+2CO (g) 通过计算回答下列问题: (1) 标准状态下反应热是多少?是放热反应还是吸热反应? (2) 标准状态下,298K时,反应能否自发进行?
【简答题】制备半导体材料时发生如下反应: SiO 2 (s)+ 2C(s ,石墨 ) ═ Si (s)+2CO (g) 通过计算回答下列问题: (1) 标准状态下反应热是多少?是放热反应还是吸热反应? (2) 标准状态下, 298K 时,反应能否自发进行?
【单选题】下列药物中,间氨基酚是特殊杂质的是
A.
葡萄糖注射液
B.
对氨基水杨酸钠
C.
盐酸普鲁卡因胺
D.
注射用盐酸普鲁卡因胺
E.
盐酸利多卡因
【简答题】制备半导体材料时发生如下反应: SiO2 (s)+ 2C(s,石墨) =Si (s)+2CO (g) 通过计算回答下列问题: (1) 标准状态下反应热是多少?是放热反应还是吸热反应? (2) 标准状态下, 298K时,反应能否自发进行?
【单选题】直接控制电压门控通道开闭的因素是
A.
化学性质
B.
温度改变
C.
膜两侧物质浓度差变化
D.
机械刺激
E.
膜两侧电位差变化
【单选题】易透过血脑屏形障,成核黄疸的物质是
A.
胆绿素
B.
胆素原
C.
胆红素
D.
未结合胆红素
【单选题】产甲烷菌所进行的无氧呼吸是( )。
A.
碳酸盐呼吸
B.
硝酸盐呼吸
C.
硫酸盐呼吸
D.
延胡索酸呼吸
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