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【单选题】
下面对离子溅射描述不正确的是A.
离子溅射指 使真空室内剩余气体分子在强电作用下发生电离，电离后的正离子在电场作用下向阴极方向高速运动，撞击到阴极 ( 靶材 ) 表面后，把自己的能量传递给位于阴极面上的溅射靶子，使靶面原子或分子从其中逸出而沉积到基片上，形成所需要的膜。
B.
反应溅射和 射频溅射不属于离子溅射。
C.
磁控放电溅射是离子溅射的一种，其电子在正交电磁场中做摆线运动，电子运动路程增大，电子的电离效率 提高
D.
真空蒸发和离子溅射区别在于 热源作用位置不同、 靶材熔点范围不同、 速率不同、 附着力不同。
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举一反三
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