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请阐述影响胎儿发育的因素有哪些？
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举一反三
【单选题】在半导体制造中，通常使用湿法刻蚀去除晶体背面的硅，蚀刻速率是该过程中需要重点关注的特征。为评估两种不同的蚀刻溶液，实验人员随机选择了8个晶片，将每个晶片分为两半，其中一半用溶液1蚀刻，另一半用溶液2蚀刻，且晶片在不同溶液之间的分配是随机的。下列是观察到的蚀刻速率（单位：密尔/分）。溶液1：9.9，9.4，10.0，10.3，10.6，10.3，9.3，9.8。溶液2：10.2，10.0，10.7，...
A.
0.169
B.
-0.169
C.
0.178
D.
-0.178
【单选题】患儿男,4岁,水肿,尿少一个月。查体:全身水肿明显,血压90/50mmHG,尿蛋白(++++)。每高倍镜视野红细胞1~2个,目前患儿最主要的护理问题是
A.
营养失调：低于机体需要量
B.
潜在并发症：药物副作用
C.
有感染的危险
D.
体液过多
E.
焦虑
【单选题】在半导体制造中,通常使用湿法刻蚀去除晶体背面的硅,蚀刻速率是该过程中需要重点关注的特征。为评估两种不同的蚀刻溶液,实验人员随机选择了8个晶片,将每个晶片分为两半,其中一半用溶液1蚀刻,另一半用溶液2蚀刻,且晶片在不同溶液之间的分配是随机的。下列是观察到的蚀刻速率(单位:密尔/分)。溶液1:9.9,9.4,10.0,10.3,10.6,10.3,9.3,9.8。溶液2:10.2,10.0,10.7,...
A.
0.169
B.
0.178
C.
-0.169
D.
-0.178
【单选题】患儿男,4岁,水肿,尿少一个月。查体:全身水肿明显,血压90/50mmHg,尿蛋白(++++)每高倍镜视野红细胞1-2个,目前患儿最主要的护理问题是
A.
营养失调:低于机体的需要量
B.
潜在并发症:药物副作用
C.
有感染的危险
D.
体液过多
E.
焦虑
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