单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用焦炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450～500 ℃)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。 相关信息如下： a．四氯化硅极易水解； b．硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物； c．有关物质的物理常数见下表： 物　质 SiCl 4 BCl 3 AlCl 3 FeCl 3 PCl 5 沸点/℃ 57.7 12.8 － 315 － 熔点/℃ －70.0 －107.2 － － － 升华温度/℃ － － 180 300 162 请回答下列问题： (1)写出装置A中发生反应的离子方程式  ____________________________。 (2)装置A中g管的作用是________；装置C中的试剂是________；装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________。 (3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。 (4)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe 2 ＋ ，再用KMnO 4 标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe 2 ＋ ＋MnO 4 － ＋8H ＋ =5Fe 3 ＋ ＋Mn 2 ＋ ＋4H 2 O 滴定前是否要滴加指示剂？________(填“是”或“否”)，请说明理由______________________。 ②某同学称取5.000 g残留物，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10 － 2 mol·L － 1 KMnO 4 标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是________。